超导器件工艺平台是中科院上海微系统所信息功能材料国家重点实验室“十二五”部署建设的核心器件平台之一，总投资额逾一亿元人民币。平台建设分为两期，一期建设面积约650平方米，投资额约6500万元，其中百级洁净区域约150平方米，其它为千级洁净区域。一期工艺设备包括：电子束曝光系统、多腔体磁控溅射系统、光刻机、光刻胶处理系统、反应离子刻蚀系统、复合型蒸发系统、X射线衍射仪、表面形貌分析仪、扫描电子显微镜等多台设备。目前一期建设于2013年完成，平台已开始正式运行。通过该工艺平台建设，将建成国际一流的低温超导器件研发工艺线，实现我国超导量子干涉器件（SQUID）、超导单光子探测器件（SNSPD）等器件的自主研制能力。二期建设规划新增洁净室面积约400平方米，拟添增步进投影光刻机、超高真空超薄膜溅射系统、离子束溅射沉积系统、光学薄膜溅射系统等工艺设备。进一步增强该平台超导电子学器件的研发条件并具备小批量超导器件制备能力，最终将形成一个面向国内外开放、共享的高端超导电子学器件研发平台。