个人履历

吴挺俊，现任中国科学院上海微系统与信息技术研究所副研究员，硕士生导师。2011年毕业于大连理工大学化工专业，获学士学位，2016年毕业于加州大学河滨分校，获博士学位。2021年加入中国科学院上海微系统与信息技术研究所。主要研究电镀等半导体湿法工艺及相关材料，并从事功能半导体材料的合成与应用的研究。已发表论文10余篇。

代表性论文

1. 贺宇,吴挺俊,朱雷,李鑫,李卫民,俞文杰. 含亚氨基抑制剂分子对钴电沉积的影响[J].半导体技术,2023,48(10):911-918.

2. Tingjun Wu, Jiwon Kim, Nosang V. Myung, “Electrochemical Mechanism of Tellurium Reduction in Alkaline Medium”, Frontiers in Chemistry, 2020, 8(00084).

3. Tingjun Wu et al., “Application of Perovskite‐Structured Materials in Field‐Effect Transistors”, Advanced Electronic Materials, 2019, 1900444.

4. Tingjun Wu et al., “Electrodeposition of Compact Tellurium Thick Films from Alkaline Baths”, Journal of The Electrochemical Society, 2017,164(2), D82–D87.

5. Tingjun Wu et al., “Electrodeposition of dense lead telluride thick films in alkaline solutions”, Journal of The Electrochemical Society, 2016,163(14), D801.