纳米磨料与抛光液研发平台致力于为化学机械抛光（CMP）中所用的抛光液开发和应用提供强大技术支撑。通过综合利用各类先进的材料与器件表征及性能测试仪器，开展抛光液中所用到的磨料的成分和性能分析，研究抛光液中磨料与辅料，抛光液与被抛材质，抛光后抛光液变化等数据，为自主开发抛光液，以及抛光液在集成电路、大功率器件、LED等方面的开发应用及性能优化等提供重要指导，为实现打破国外在抛光液上的垄断、自主研究开发高性能抛光液、突破国际专利封锁、做出国际一流水平的原创性研究成果和工业产品提供重要支撑。

　　纳米磨料与抛光液研发平台发展目标首先是为抛光液的开发提供强有力的支撑，最终是建成装备一流、管理一流、技术服务一流的纳米磨料与抛光液研发公用平台；建设一支技术全面、技艺精湛、具有创新精神的技术支撑队伍；全面实现设备资源的开放共享，为信息功能材料国家重点实验室以及全社会科技需求提供高效、高品质技术服务。

　　纳米磨料与抛光液研发配置抛光性能检测设备5台，磨料分析设备6台，抛光液配方及抛光后检测设备6台。包括Bruker CP-4抛光机、SPEEDFAM单面软抛光机等多台抛光机，用以测试抛光液的抛光性能，该抛光机均为目前抛光厂家常用抛光机。激光粒度分析仪、电感耦合等离子体发射光谱仪、阴离子色谱等磨料检测设备，用以检测抛光液磨料的粒径、纯度等参数。原子力显微镜、接触角仪、红外光谱仪等设备，用以检测抛光液中的有效成分，以及抛光后晶片表面状态。

　　平台不仅具有先进的硬件设施，还组建了由一流的科研人员和技术人员共同组成的精通设备原理、科学研究和运行管理的交叉创新服务团队。每台设备都专门配置了设备负责人，设备负责人专注于设备功能开发和技术支撑服务，从而实现了平台技术服务与科学研究的高度融合。技术支撑队伍建设为平台的稳定、高效、高水平运行创造了重要条件。