光学膜沉积系统

设备型号
VEECO/SPECTOR
设备简介
采用Ar离子轰击将靶源沉积到基片上,膜系SiO2,Ta2O5
技术指标
1)基片大小:2英寸;2)沉积速率≥2.5A/s;3)不均匀性:≤0.1%

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    所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。 沪ICP备05005483号-1