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材料器件工艺与表征平台拥有器件制备、材料验证和表征测试等先进微纳加工与表征测试设备,具备长期技术积累与专业服务能力,能满足射频、光电、压电、生物传感等多种核心功能器件与新型前沿交叉器件加工制备与表征测试需求。
光学膜沉积系统
设备型号
VEECO/SPECTOR
设备简介
采用Ar离子轰击将靶源沉积到基片上,膜系SiO
2
,Ta
2
O
5
。
技术指标
1)基片大小:2英寸;2)沉积速率≥2.5A/s;3)不均匀性:≤0.1%
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所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。
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