共聚焦显微镜

设备型号
Zeiss/LSM900
设备简介
主要用于工艺过程中, 光刻、刻蚀等工艺监控及器件三维形貌观测及分析。
技术指标
1)Z向分辨率~12nm;2)XY向分辨率~0.1μm;3)光源405nm激光;4)物镜:5X(NA0.13), 20X(NA0.7), 50X (NA0.6), 50X(NA0.95)

附件下载:

    所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。 沪ICP备05005483号-1