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仪器设备
材料器件工艺与表征平台拥有器件制备、材料验证和表征测试等先进微纳加工与表征测试设备,具备长期技术积累与专业服务能力,能满足射频、光电、压电、生物传感等多种核心功能器件与新型前沿交叉器件加工制备与表征测试需求。
接触式曝光机
设备型号
SUSS MA6
设备简介
可以用于各种基底器件制备中的单步或多流程的光刻工艺,曝光光源为汞灯,波长为405nm紫外光。适用多种光刻胶,具有接近式、接触式和真空曝光三种模式,具备双面套刻对准功能(4寸标准晶圆适用双面套刻)。
技术指标
1)最大曝光面积6英寸;2)掩膜版尺寸:3寸/4寸/5寸;3)极限分辨率:0.8μm;4)可双面套刻,正面套刻精度±0.5μm,背面套刻精度±1μm;5)光强均匀性:优于2.5%@6英寸晶圆
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所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。
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