无掩膜激光直写光刻机02

设备型号
Miscan 200
设备简介
适用于多种基底上的直写光刻和套刻工艺,用于微米尺度光刻工艺,3/4/5/7/9/12寸掩模版制版。
技术指标:

基片尺寸:5mmx5mm-250mmx250mm;

有效光刻面积:250mmx250mm;

最小线宽:0.5um;

套刻精度:±0.5um;

曝光光源:355nm波长紫外固体激光器;

最大输出光功率:10W@20KHz;

加工效率:>100mm2/min@0.5um;300mm2/min@1um;

曝光模式:物镜配置10X,20X,50X三种不同的曝光物镜;



附件下载:

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