IBE 刻蚀机

设备型号：
鲁汶仪器HAASRODE-1200
设备简介：
利用Ar离子物理刻蚀材料，可以用于Si，石英，介质，金属等物理刻蚀。
技术指标：
1)基片大小：最大8英寸，兼容小片；2)离子束能量：100ev~1000ev；3)RF功率：1000W；4)最大beam电流：1000mA；5)载片台角度：-80°~80°6)刻蚀不均匀性：≤±2%（@6英寸）

附件下载：

    所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置，加强技术支撑系统建设，建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心，实现仪器设备的高效共享利用。 沪ICP备05005483号-1

    友情链接
    联系方式