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共用金属层的肖特基二极管和相变存储器及其制造方法

专利名称:	共用金属层的肖特基二极管和相变存储器及其制造方法
专利名称英文:
专利类别:	发明
申请号:	201010138167.6
专利号:
申请日期:	2010-4-1
第一发明人:	宋志棠
第一发明人英文:
其他发明人:	龚岳峰; 刘波; 李宜瑾; 张挺; 凌云
其他发明人英文:
国外申请日期:
国外申请方式:
国外申请方式英文:
专利授权日期:	2012-2-29
缴费情况:
缴费情况英文:
实施情况:
实施情况英文:
其他备注:	授权
其他备注英文:
专利证书号:
专利摘要:
专利摘要英文:
国外授权日期:

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