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一种提高单晶压电薄膜厚度均匀性的方法

专利名称:	一种提高单晶压电薄膜厚度均匀性的方法
专利名称英文:
专利类别:
申请号:	2020106036303
专利号:
申请日期:	2020/6/29
第一发明人:	欧欣
第一发明人英文:
其他发明人:	李忠旭,黄凯,赵晓蒙,李文琴,鄢有泉,陈阳
其他发明人英文:
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专利授权日期:
缴费情况:
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实施情况:
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