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可提供低能注入离子的石墨烯处理装置

专利名称:	可提供低能注入离子的石墨烯处理装置
专利名称英文:
专利类别:
申请号:	2023101628426
专利号:
申请日期:	2023/2/24
第一发明人:	王浩敏
第一发明人英文:
其他发明人:	王祎博；王慧山；姜程鑫；王伟；
其他发明人英文:
国外申请日期:
国外申请方式:
国外申请方式英文:
专利授权日期:
缴费情况:
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实施情况:
实施情况英文:
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国外授权日期:

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