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Electrical Characteristics of High Mobility Si/Si0. 5Ge0. 5/SOI Quantum-Well p-MOSFETs with a Gate Length of 100 nm and an Equivalent Oxide Thickness of 1.1 nm
Zhiqiang Mu, Wenjie Yu, Bo Zhang, Zhongying Xue, Ming Chen
Chinese Physics Letters
2013, 30(10), 108502.
https://doi.org/10.1088/0256-307X/30/10/108502