应利良，中国科学院上海微系统与信息技术研究所高级工程师。在上海大学取得博士学位，曾在超导材料知名科研机构德国德累斯顿固体与材料研究所(IFW)以及超导电子学知名科研机构日本产综研(AIST)学习，具有丰富的超导电子器件工艺经验。于2011年07月加入中国科学院上海微系统与信息技术研究所。 

应利良博士长期从事超导电子器件工艺领域研究工作，在SQUID器件工艺、SFQ器件集成工艺等领域取得多项创新性成果。在IEEE等期刊发表了SCI论文30余篇，申请发明专利20余件。入选中科院关键技术人才项目等。